FotoCreativaBA – Residencia Artística Internacional en Japón y China

FotoCreativaBA, plataforma de formación, producción e investigación en fotografía expandida y arte contemporáneo, lanza dos programas de residencia artística internacional para 2026‑2027. La residencia en Japón, en colaboración con IDEA R LAB en Kurashiki, combina un laboratorio online de doce meses (marzo 2027‑febrero 2028) con un mes de residencia presencial en marzo, abril o mayo de 2028. La residencia en China, en asociación con OrganHaus en Chongqing, ofrece doce meses de formación curatorial online (septiembre 2026‑agosto 2027) y un mes de estancia presencial en 2027‑2028, con cohortes de 3‑4 artistas. Ambos programas incluyen espacio de estudio compartido, alojamiento y apoyo del equipo local; no cubren pasaje aéreo, visa, seguro ni gastos personales. La convocatoria está abierta a artistas visuales, fotógrafos e investigadores de cualquier parte del mundo que trabajen con fotografía expandida; no se exige edad mínima ni experiencia previa. La fecha límite de postulación oficial, según la página de FotoCreativaBA, es el 30 de diciembre de 2026, aunque la publicación en Arte al Día menciona una fecha anterior (15 de agosto de 2026) para la residencia en China; se recomienda confirmar la fecha con la organización a través de [email protected]. La aplicación se realiza vía correo electrónico y se requiere enviar CV, portafolio y propuesta de proyecto. La residencia ofrece un entorno de aprendizaje intensivo, mentoría curatorial individual, encuentros grupales con artistas invitados y la posibilidad de presentar el trabajo final en un open studio. La duración total es de 13 meses, con 12 meses de formación online y 1 mes de residencia presencial.

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